Trosolwg o'r cynnyrch
Mae systemau anweddiad gwrthiant Nice{{0}Tech yn-gêr PVD a adeiladwyd yn bwrpasol ar gyfer -dyddodiad ffilm tenau o ansawdd uchel-dau fodel craidd i gwmpasu eich anghenion: y RES 100 a RES 200I.
Mae'r RES 100 yn-grwngryn cryno (yn gwneud pelydr electron ac anweddiad gwrthiant) gyda-cynllun arbed gofod-yn berffaith os yw eich labordy neu ardal gynhyrchu yn dynn yn yr ystafell. Mae'r RES 200I? Mae'n arbenigwr, wedi'i adeiladu'n benodol ar gyfer swyddi dyddodiad bwmp indiwm proffesiynol.
Mae'r ddau fodel yn pacio technoleg gwresogi gwrthiant aeddfed,-cydrannau gwactod haen uchaf, a system reoli gwbl awtomatig VKOS ei hun-fel eich bod yn cael ffurfiant cyson, dibynadwy o ffilmiau bob tro. O ran perfformiad-, maent yn darparu: ±3% unffurfiaeth cotio, ±2% ailadroddadwyedd, a gwactod eithaf o 1E-5Pa. P'un a ydych chi'n cynnal profion ymchwil a datblygu labordy neu gynhyrchu diwydiannol arbenigol, mae'r systemau hyn yn gwirio'r holl flychau.
Manteision
Perfformiad wedi'i Dargedu
Mae RES 200I yn gwneud y gorau o ddyddodiad bump indium ar gyfer weldio gwrthdroad; Mae RES 100 yn gwneud anweddiad pelydr electron/gwrthiant deuol, gan osod -swp-swp{{{}}gwaith bach o ddeunydd.
Compact ac Effeithlon
Mae ôl troed RES 100's 3.15m × 2.4m × 2.2m yn arbed lle. Mae gan y ddau fodel gynnal a chadw syml ac awtomeiddio uchel, gan dorri gwaith llaw.
Ansawdd Sefydlog
Yn defnyddio -cydrannau craidd brand uchaf + rheolaeth tymheredd manwl gywir (RES 100: -50 gradd ~500 gradd; RES 200I: -80 gradd ~200 gradd ) ar gyfer purdeb ffilm cyson.
Addasiad Hyblyg
Yn gweithio gydag In, metelau, deuelectrig. Yn ffitio-swp-gynhyrchu/Ymchwil a Datblygu bach; gosodiadau Dôm / Plât dewisol ar gyfer gwahanol weithfannau.
Ceisiadau
Prosesau Diwydiannol Arbenigol:RES 200I ar gyfer dyddodiad bump indium mewn weldio gwrthdroad (cynulliad cydran electronig).
Labordy ac Ymchwil a Datblygu:Mae RES 100 yn cefnogi ymchwil a datblygu deunydd newydd swp bach (opteg fanwl, microelectroneg) mewn prifysgolion/sefydliadau.
Swp-gynhyrchu Bach-Swp:Cydrannau electronig personol, rhannau optegol, dyfeisiau biofeddygol (ffilmiau tenau purdeb uchel).
Isgoch ac optoelectroneg:Datrysiadau ffilm tenau arbenigol ar gyfer synwyryddion isgoch a dyfeisiau optoelectroneg.
Paramedrau
|
Categori |
Eitem |
T360 (Math Compact) |
T550I (Math Anweddiad Indiwm Arbenigol) |
|
Gwybodaeth Gyffredinol |
Technoleg Graidd |
PVD-Gwrthiant/Anweddiad Pelydr Electron |
PVD{0}}Anweddiad Gwrthiant (Dadodiad Bump Indium) |
|
System Reoli |
System Reoli Cwbl Awtomatig VKOS(Hunan-Wedi datblygu) |
System Reoli Cwbl Awtomatig VKOS(Hunan-Wedi datblygu) |
|
|
Cydrannau Craidd |
Rhannau brand o fri rhyngwladol (pwmp gwactod, mesurydd, ac ati) |
Rhannau brand o fri rhyngwladol (pwmp gwactod, |
|
|
Paramedrau Perfformiad |
Cotio Unffurfiaeth |
±3% |
±3% |
|
Ailadroddadwyedd Cotio |
±2% |
±2% |
|
|
Gwactod Ultimate |
1E-5Pa |
1E-5Pa |
|
|
Ystod Rheoli Tymheredd |
-50 gradd ~ 500 gradd |
-80 gradd ~ 200 gradd |
|
|
lon Ffynhonnell |
Ffynhonnell ïon Kaufman a Hall |
Ffynhonnell ïon Kaufman a Hall |
|
|
Manylion Ffurfweddu |
Math Siambr |
Siambr gryno sengl |
Siambr arbenigol sengl |
|
Gosodion |
Cromen& Plât |
Gosodiad arbenigol ar gyfer dyddodiad indium |
|
|
Swyddogaethau Allweddol |
Anweddiad modd deuol (gwrthiant/pelydr electron); -brosesu swp bach |
Dyddodiad bump indium proffesiynol; weldio gwrthdroad |
|
|
Dimensiynau Corfforol |
Gofynion Gofod(LxWxH) |
3.15mx2.4mx2.2m |
3.3mx2.7mx2.2m |
Tagiau poblogaidd: systemau anweddiad ymwrthedd, gweithgynhyrchwyr systemau anweddiad ymwrthedd Tsieina, cyflenwyr
