Trosolwg o'r cynnyrch
System dyddodi anwedd cemegol gwasgedd isel ar gyfer gweithgynhyrchu lled-ddargludyddion yw'r LPCVD TEOS/Poly/SiN. Fe'i defnyddir i adneuo ffilmiau tenau Poly, TEOS, SiN a HTO o ansawdd uchel. Gyda dyluniad siambr fertigol, mae'n darparu rheolaeth thermol a phroses sefydlog, ac mae'n gweithio'n dda mewn IC, dyfais pŵer, a chynhyrchu MEMS.
Manteision
Mae'n sefydlog ac yn ddibynadwy: mae dyluniad mecanyddol solet a rheolaeth broses dynn yn helpu i gadw unffurfiaeth ffilm ac ailadroddadwyedd yn gyson.
Mae diogelwch wedi'i gynnwys: dros dymheredd / amddiffyn dros bwysau, canfod gollyngiadau, a stopio brys yn lleihau risgiau i weithredwyr ac offer.
Mae gweithredu a chynnal a chadw yn syml: mae'r rhyngwyneb yn hawdd ei ddefnyddio, ac mae'r cynllun modiwlaidd yn lleihau'r amser segur.
Mae'n cefnogi trwybwn a hyblygrwydd uchel: yn gydnaws â wafferi 6/8/12 modfedd (hyd at 150 fesul swp) a phrosesau o 400 gradd i 1250 gradd.
Ceisiadau
1. IC gweithgynhyrchu: dielectrics giât, spacers, passivation, a interlayer ffilmiau ar gyfer rhesymeg, cof, a sglodion analog.
2. Dyfeisiau pŵer: Ffilmiau Poly, SiN, a TEOS ar gyfer MOSFETs, IGBTs, a chydrannau foltedd uchel / dibynadwyedd uchel eraill.
3. MEMS: strwythurol, aberthol, a deunydd pacio ffilmiau ar gyfer synwyryddion a actuators.
4. uwch pecynnu: dielectric a haenau passivation yn lefel wafferi a phecynnu 3D.
FAQ
Q: Ar gyfer beth mae System LPCVD Fertigol yn cael ei defnyddio?
A: Mae System LPCVD Fertigol yn fath o offer dyddodiad anwedd cemegol pwysedd isel a ddefnyddir yn bennaf mewn cynhyrchu lled-ddargludyddion. Fe'i cynlluniwyd i osod -ffilmiau tenau o ansawdd uchel megis Poly, TEOS, SiN, a HTO ar wafferi ar gyfer gweithgynhyrchu sglodion a dyfeisiau.
Q: Pa fanteision y mae'r System LPCVD Fertigol yn eu cynnig?
A: Un fantais fawr yw dyddodiad ffilm sefydlog ac unffurf, sy'n hanfodol ar gyfer prosesau lled-ddargludyddion. Mae hefyd yn rhedeg yn ddibynadwy dros gyfnodau cynhyrchu hir, yn cynnwys amddiffyniadau diogelwch lluosog, ac mae'n gymharol hawdd i'w weithredu a'i gynnal. Mae'r dyluniad fertigol hefyd yn cefnogi trwygyrch uwch a gwell effeithlonrwydd gofod mewn ystafelloedd glân.
Q: Pa feintiau wafferi sy'n gydnaws â'r system hon?
A: Mae'r rhan fwyaf o fodelau yn cefnogi wafferi 6 modfedd, 8 modfedd a 12 modfedd, gan ei gwneud yn addas ar gyfer llawer o wahanol linellau cynhyrchu, o dreialon Ymchwil a Datblygu i weithgynhyrchu màs.
Q: Pa ffilmiau tenau y gall System LPCVD Fertigol eu hadneuo?
A: Mae rhai cyffredin yn cynnwys silicon polygrisialog (Poly), ocsid TEOS, nitrid silicon (SiN), ac ocsid tymheredd uchel (HTO). Defnyddir y ffilmiau hyn yn eang mewn IC, dyfais pŵer, a gwneuthuriad MEMS.
Q: Ym mha ystod tymheredd mae'r system yn gweithio?
A: Mae tymereddau proses nodweddiadol yn amrywio o tua 400 gradd hyd at 1250 gradd, gan gwmpasu'r rhan fwyaf o ofynion dyddodiad safonol ar gyfer ffilmiau ocsid, nitrid a poly.
Q: Ble mae Systemau LPCVD Fertigol yn cael eu cymhwyso'n gyffredin?
A: Fe'u defnyddir yn eang mewn gweithgynhyrchu cylched integredig, lled-ddargludyddion pŵer, dyfeisiau MEMS, a phrosesau pecynnu lefel waffer uwch.
Q: A yw'r System LPCVD Fertigol yn cynnwys nodweddion diogelwch?
A: Ydy, mae gan systemau safonol swyddogaethau diogelwch lluosog, megis dros{0}}amddiffyn tymheredd, gor-amddiffyn pwysau, canfod gollyngiadau nwy, a stopio brys, i sicrhau gweithrediad dyddiol sefydlog a diogel.
Q: Pam dewis LPCVD fertigol dros un llorweddol?
A: Yn gyffredinol, mae systemau fertigol yn darparu gwell unffurfiaeth thermol, gallu swp uwch, ôl troed llai, a chynnal a chadw haws. Mae'r rhain yn eu gwneud yn fwy poblogaidd mewn fabs lled-ddargludyddion modern.
Tagiau poblogaidd: system lpcvd fertigol, gweithgynhyrchwyr system lpcvd fertigol Tsieina, cyflenwyr
